真空泵结构图及原理

　　关注半导体投资与退出、科技前沿领域贡献、项目创新以及技术“出海”与拓展。评委会由超过100家半导体投资联盟会员单位及500+行业CEO组成。获奖名单将于2025半导体投资年会暨㊣IC风云榜颁奖典礼上揭晓真空泵结构图及原理。

　　原磊纳米成立于2018年9月，致力成为✅高端半导体镀✅膜设备供应商。公开资料显示，原磊纳㊣米由具备近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建，主要产品涵盖原子层沉积（ALD）设备和硅锗外延（EPI）设备，并为客户提供精密加工服务。

　　QYResearch调研数据显示，2022年中国原子层沉积设备（ALD）市场销售收入达到了6.66亿美元，预计2029年可以达到到10.05亿美元，2023-2029期间年复合增长率(CAGR)为7.20%。

　　此次，“Cluster系列”作为原磊纳米核心产品之一，更能体现其竞逐IC风云榜“年度最具㊣成长潜力奖”的技术㊣积淀。该设备系团簇式ALD设备，是集成电路先进工艺的关键薄膜沉积设备，基于自主研发的㊣Elegant Cluster平台打造，主要应用于㊣8 /12英寸逻辑、存储✅器件等生产制造，可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜㊣沉积需求。

　　2024年，原磊纳米自主研发的首台先进制程ALD团簇机台A300已成功㊣交付客户，这一进展不仅体现了公司在ALD先进制程设备领域的创新实力，也展示了其在推进半导体产业国产化进程中的坚定决心和显著成果。

　　据悉，该设备实现PE和Thermal工艺的无缝衔接，大幅提高了工艺稳定性和生产效率。其中，Thermal ALD工㊣艺腔配置了plasma自清洁功能，有助于提高㊣设备的可靠性和延长PM周✅期，进一步提升了性能和竞争力。该平台的各项工艺性能均达到国际先进水平，获得多方客户肯定。

　　截至目前，原磊纳米已经实现㊣了两轮融资历程，获得了包含尚颀资本，丰年资本，国中资本，金雨茂物，邦盛资本，深创投，源来资本，浑璞投资在㊣内的产业资本和企业支持。

　　原磊纳米作为产业“革新者”，正以领先的薄膜设备设计㊣理念为基础，以强大的半导体工艺和材料㊣能力为驱动，通过自主创新研发设备，致力打造国产半导体设备品牌。其全线产品对标海外大厂，先后荣㊣获㊣高新技术✅企业、南京市培育独角兽企业、江苏㊣省专精特新中小企业等荣誉，在半导体镀膜领域的专业性、创新性得到了充分认可，正向着“高端国产真空镀膜设备领跑者”的目标✅持续迈进！

　　2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼将于2024年12月举办，奖项申报已启动，目前征集与候选企业/机构报道正在进行，欢迎报名参与，共赴行业盛宴！

　　该奖项面向在半导体某一细分领域中，技术与产品有所突破并即将进入高速发展期，且得到知名机构投资的企业；和已形成较强的细分领域竞争优势，发展速度较快㊣的企✅业。奖项旨在表彰这些具有成长潜力的行业新兴企业真空设备，助力投资人和项目方更好地✅洞悉市场环境和行业趋势，推进企业跨越式发展。

　　1、在半导✅体某一细分领域中，技术与产品有所突破并即将进入高速发展期，且得到知名机构投资；或已㊣形成较强的细分领域竞争优势，发展迅速的企业；

　　1、评委会由“半导体投资联盟”超100家会员单位及数百位半导体行业CEO共同组成；2、每位评委限投5票，最终按企业得票数量评选出“年度最具成长潜力奖”。